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Laserrekristallisation von Silizium : Integration von CMOS-Schaltungen auf isolierendem Substrat
Fortschritt-Berichte VDI : Reihe 9 : 82 (Alle Bände)
Als Ms. gedr, 1988
Signatur: XVW2188-82

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Laserrekristallisation von Silizium : Integration von CMOS-Schaltungen auf isolierendem Substrat
Ist Teil von
Auflage
Als Ms. gedr
Ort / Verlag
Düsseldorf : VDI-Verl.
Erscheinungsjahr
1988
Sprache
Deutsch
Identifikatoren
ISBN: 3181482099
OCLC-Nummer: 246891425, 246891425
Titel-ID: 990004834220106463
Format
147 S. : Ill., graph. Darst.
Systemstelle
XVW
Schlagworte
CMOS-Schaltung, SOI-Technik, Dreidimensionale Integration, Rekristallisation

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