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- Veloso, A.
- Jourdain, A.
- Radisic, D.
- Chen, R.
- Arutchelvan, G.
- O'Sullivan, B.
- Arimura, H.
- Stucchi, M.
- De Keersgieter, A.
- Hosseini, M.
- Hopf, T.
- D'have, K.
- Wang, S.
- Dupuy, E.
- Mannaert, G.
- Vandersmissen, K.
- Iacovo, S.
- Marien, P.
- Choudhury, S.
- Schleicher, F.
- Sebaai, F.
- Oniki, Y.
- Zhou, X.
- Gupta, A.
- Schram, T.
- Briggs, B.
- Lorant, C.
- Rosseel, E.
- Hikavyy, A.
- Loo, R.
- Geypen, J.
- Batuk, D.
- Martinez, G. T.
- Soulie, J. P.
- Devriendt, K.
- Chan, B. T.
- Demuynck, S.
- Hiblot, G.
- Van der Plas, G.
- Ryckaert, J.
- Beyer, G.
- Litta, E. Dentoni
- Beyne, E.
- Horiguchi, N.
2022
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Journal of engineering for gas turbines and power, 2000-01, Vol.122 (1), p.135-140
2000
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2020 IEEE Symposium on VLSI Technology, 2020, p.1-2
- Subramanian, S.
- Hosseini, M.
- Chiarella, T.
- Sarkar, S.
- Schuddinck, P.
- Chan, B. T.
- Radisic, D.
- Mannaert, G.
- Hikavyy, A.
- Rosseel, E.
- Sebaai, F.
- Peter, A.
- Hopf, T.
- Morin, P.
- Wang, S.
- Devriendt, K.
- Batuk, D.
- Martinez, G. T.
- Veloso, A.
- Litta, E. Dentoni
- Baudot, S.
- Siew, Y. K.
- Zhou, X.
- Briggs, B.
- Capogreco, E.
- Hung, J.
- Koret, R.
- Spessot, A.
- Ryckaert, J.
- Demuynck, S.
- Horiguchi, N.
- Boemmels, J.
2020
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Proceedings of the Design Society, 2022, Vol.2, p.593-602
2022
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IEEE transactions on electron devices, 2018-11, Vol.65 (11), p.5165-5171
- Vandooren, A.
- Franco, J.
- Parvais, B.
- Wu, Z.
- Witters, L.
- Walke, A.
- Li, W.
- Peng, L.
- Deshpande, V.
- Bufler, F. M.
- Rassoul, N.
- Hellings, G.
- Jamieson, G.
- Inoue, F.
- Verbinnen, G.
- Devriendt, K.
- Teugels, L.
- Heylen, N.
- Vecchio, E.
- Zheng, T.
- Rosseel, E.
- Vanherle, W.
- Hikavyy, A.
- Chan, B. T.
- Ritzenthaler, R.
- Besnard, G.
- Schwarzenbach, W.
- Gaudin, G.
- Radu, I.
- Nguyen, B.-Y.
- Waldron, N.
- De Heyn, V.
- Mocuta, D.
- Collaert, N.
2018
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2016 IEEE Symposium on VLSI Technology, 2016, p.1-2
- Mertens, H.
- Ritzenthaler, R.
- Hikavyy, A.
- Kim, M. S.
- Tao, Z.
- Wostyn, K.
- Chew, S. A.
- De Keersgieter, A.
- Mannaert, G.
- Rosseel, E.
- Schram, T.
- Devriendt, K.
- Tsvetanova, D.
- Dekkers, H.
- Demuynck, S.
- Chasin, A.
- Van Besien, E.
- Dangol, A.
- Godny, S.
- Douhard, B.
- Bosman, N.
- Richard, O.
- Geypen, J.
- Bender, H.
- Barla, K.
- Mocuta, D.
- Horiguchi, N.
- Thean, A. V-Y
2016
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Thin solid films, 2016-03, Vol.602, p.72-77
2016
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Applied physics letters, 2011-12, Vol.99 (24), p.242104-242104-3
2011
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Applied physics letters, 2010-03, Vol.96 (11), p.111903-111903-3
2010
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2022 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits), 2022, p.330-331
2022
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Microelectronic engineering, 2014-05, Vol.120, p.157-162
2014
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2020 IEEE Symposium on VLSI Technology, 2020, p.1-2
- Vandooren, A.
- Wu, Z.
- Parihar, N.
- Franco, J.
- Parvais, B.
- Matagne, P.
- Debruyn, H.
- Mannaert, G.
- Devriendt, K.
- Teugels, L.
- Vecchio, E.
- Radisic, D.
- Rosseel, E.
- Hikavyy, A.
- Chan, B. T.
- Waldron, N.
- Mitard, J.
- Besnard, G.
- Alvarez, A.
- Gaudin, G.
- Schwarzenbach, W.
- Radu, I.
- Nguyen, B. Y.
- Huet, K.
- Tabata, T.
- Mazzamuto, F.
- Demuynck, S.
- Boemmels, J.
- Collaert, N.
- Horiguchi, N.
2020
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2022 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits), 2022, p.284-285
- Veloso, A.
- Jourdain, A.
- Radisic, D.
- Chen, R.
- Arutchelvan, G.
- O'Sullivan, B.
- Arimura, H.
- Stucchi, M.
- Keersgieter, A. De
- Hosseini, M.
- Hopf, T.
- D'Have, K.
- Wang, S.
- Dupuy, E.
- Mannaert, G.
- Vandersmissen, K.
- Iacovo, S.
- Marien, P.
- Choudhury, S.
- Schleicher, F.
- Sebaai, F.
- Oniki, Y.
- Zhou, X.
- Gupta, A.
- Schram, T.
- Briggs, B.
- Lorant, C.
- Rosseel, E.
- Hikavyy, A.
- Loo, R.
- Geypen, J.
- Batuk, D.
- Martinez, G. T.
- Soulie, J. P.
- Devriendt, K.
- Chan, B. T.
- Demuynck, S.
- Hiblot, G.
- der Plas, G. Van
- Ryckaert, J.
- Beyer, G.
- Litta, E. Dentoni
- Beyne, E.
- Horiguchi, N.
2022
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Journal of applied physics, 2010-12, Vol.108 (12)
2010
Volltextzugriff (PDF)
2020 IEEE Symposium on VLSI Technology, 2020, p.1-2
- Gupta, A.
- Mertens, H.
- Tao, Z.
- Demuynck, S.
- Bommels, J.
- Arutchelvan, G.
- Devriendt, K.
- Pedreira, O. Varela
- Ritzenthaler, R.
- Wang, S.
- Radisic, D.
- Kenis, K.
- Teugels, L.
- Sebaai, F.
- Lorant, C.
- Jourdan, N.
- Chan, B. T.
- Zahedmanesh, H.
- Subramanian, S.
- Schleicher, F.
- Hopf, T.
- Peter, A.
- Rassoul, N.
- Debruyn, H.
- Demonie, I.
- Siew, Y.
- Chiarella, T.
- Briggs, B.
- Zhou, D.
- Rosseel, E.
- De Keersgieter, A.
- Capogreco, E.
- Litta, E. Dentoni
- Boccardi, G.
- Baudot, S.
- Mannaert, G.
- Bontemps, N.
- Sepulveda, A.
- Mertens, S.
- Kim, M. S.
- Dupuy, E.
- Vandersmissen, K.
- Paolillo, S.
- Yakimets, D.
- Chehab, B.
- Favia, P.
- Drijbooms, C.
- Cousserier, J.
- Jaysankar, M.
- Lazzarino, F.
- Morin, P.
- Sanchez, E.
- Mitard, J.
- Wilson, C.
- Holsteyns, F.
- Tokei, Z.
- Horiguchi, N.
2020
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Physical review. B, Condensed matter, 1998-02, Vol.57 (6), p.3615-3622
1998
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Thin solid films, 2010-01, Vol.518 (6), p.S48-S52
2010
Volltextzugriff (PDF)
2018 IEEE Symposium on VLSI Technology, 2018, p.203-204
2018
Volltextzugriff (PDF)
Materials science & engineering. B, Solid-state materials for advanced technology, 2008-12, Vol.154, p.24-30
2008
Volltextzugriff (PDF)
Numerical linear algebra with applications, 2008-03, Vol.15 (2-3), p.141-163
2008
Volltextzugriff (PDF)
Microelectronic engineering, 2011-05, Vol.88 (5), p.578-582
2011
Volltextzugriff (PDF)
Physical review. B, Condensed matter, 1996-09, Vol.54 (10), p.7385-7393
1996
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Journal of the Electrochemical Society, 2010, Vol.157 (4), p.G105
2010
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2015 Symposium on VLSI Technology (VLSI Technology), 2015, p.T30-T31
2015
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2020 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), 2020, p.2.1.1-2.1.4
2020
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