Technische Störung
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IEEE transactions on semiconductor manufacturing, 2016-08, Vol.29 (3), p.239-247
2016
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International journal of production research, 2007-02, Vol.45 (3), p.509-524
2007
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2006 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing, 2006, p.265-268
2006
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iScience, 2020-03, Vol.23 (3), p.100886-100886, Article 100886
2020
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Electrochimica acta, 2022-11, Vol.431, p.141105, Article 141105
2022
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IEEE electron device letters, 2023-03, Vol.44 (3), p.492-495
2023
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Nature communications, 2021-06, Vol.12 (1), p.3307-18, Article 3307
- Cichońska, Anna
- Ravikumar, Balaguru
- Allaway, Robert J
- Wan, Fangping
- Park, Sungjoon
- Isayev, Olexandr
- Li, Shuya
- Mason, Michael
- Lamb, Andrew
- Tanoli, Ziaurrehman
- Jeon, Minji
- Kim, Sunkyu
- Popova, Mariya
- Capuzzi, Stephen
- Zeng, Jianyang
- Dang, Kristen
- Koytiger, Gregory
- Kang, Jaewoo
- Wells, Carrow I
- Willson, Timothy M
- Oprea, Tudor I
- Schlessinger, Avner
- Drewry, David H
- Stolovitzky, Gustavo
- Wennerberg, Krister
- Guinney, Justin
- Aittokallio, Tero
2021
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Journal of physical chemistry. C, 2022-07, Vol.126 (29), p.12074-12081
2022
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Materials, 2018-11, Vol.11 (11), p.2159
2018
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Nanotechnology, 2018-12, Vol.29 (50), p.505401-505401
2018
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Catalysis today, 2019-09, Vol.335, p.395-401
2019
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ACS applied energy materials, 2023-02, Vol.6 (4), p.2140-2150
2023
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JACC. Asia, 2022-06, Vol.2 (3), p.258-270
2022
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2024 18th European Conference on Antennas and Propagation (EuCAP), 2024, p.1-4
2024
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Journal of physical chemistry. C, 2022-07, Vol.126 (29), p.12074-12081
2022
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Applied surface science, 2023-02, Vol.610, p.155470, Article 155470
2023
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Nanotechnology, 2018-12, Vol.29 (50), p.505401
2018
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