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A sensitive bithiophene-based biosensor for interferon-gamma characterization and analysis
Thin solid films, 2014-11, Vol.571, p.473-477
2014
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Investigation of the gate-bias induced instability for InGaZnO TFTs under dark and light illumination
Thin solid films, 2011-12, Vol.520 (5), p.1422-1426
2011
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Mechanical and optical properties of diamond-like carbon thin films deposited by low temperature process
Thin solid films, 2006-03, Vol.498 (1), p.220-223
2006
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Precise etch-depth control of microlens-integrated intracavity contacted vertical-cavity surface-emitting lasers by in-situ laser reflectometry and reflectivity modeling
Thin solid films, 2009-08, Vol.517 (19), p.5773-5778
2009
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A study of Love wave devices in ZnO/Quartz and ZnO/LiTaO3 structures
Thin solid films, 2006-03, Vol.498 (1-2), p.146-151
2006
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Characterization of porous silicate for ultra-low k dielectric application
Thin solid films, 2002-07, Vol.414 (1), p.1-6
2002
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Characteristics of RuO2–SnO2 nanocrystalline-embedded amorphous electrode for thin film microsupercapacitors
Thin solid films, 2005-03, Vol.475 (1-2), p.54-57
2005
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Investigation of the electrical properties and reliability of amorphous SiCN
Thin solid films, 2004-01, Vol.447 (Complete), p.632-637
2004
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Study on the effect of electron beam curing on low-K porous organosilicate glass (OSG) material
Thin solid films, 2004-12, Vol.469 (Complete), p.383-387
2004
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The impact of non-uniform channel layer growth on device characteristics in state of the Art Si/SiGe/Si p-metal oxide semiconductor field effect transistors
Thin solid films, 2006-02, Vol.496 (2), p.306-310
2006
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Cu-penetration induced breakdown mechanism for a-SiCN
Thin solid films, 2004-12, Vol.469 (Complete), p.388-392
2004
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Study on etching profile of nanoporous silica
Thin solid films, 2004-12, Vol.469 (Complete), p.377-382
2004
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Electrical properties of metal–ferroelectric–insulator–semiconductor using sol–gel derived SrBi2Ta2O9 film and ultra-thin Si3N4 buffer layer
Thin solid films, 2002-12, Vol.420-421, p.377-381
2002
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A new technique to measure through film thickness fracture toughness
Thin solid films, 2001-12, Vol.401 (1), p.203-210
2001
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The novel pattern method of low- k hybrid-organic-siloxane-polymer film using X-ray exposure
Thin solid films, 2002-12, Vol.420, p.403-407
2002
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The effects of growth temperature on the microstructure and electrical barrier height in PtSi/p-Si(100) Schottky barrier detector
Thin solid films, 2000-10, Vol.374 (1), p.80-84
2000
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Surface qualities after chemical–mechanical polishing on thin films
Thin solid films, 2009-07, Vol.517 (17), p.4909-4915
2009
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CMP of ultra low- k material porous-polysilazane (PPSZ) for interconnect applications
Thin solid films, 2004-01, Vol.447, p.524-530
2004
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Fabrication and characteristics of field emitter using carbon nanotubes directly grown by thermal chemical vapor deposition
Thin solid films, 2003-07, Vol.436 (2), p.298-302
2003
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Surface effect on laser-induced damage in thin metal films
Thin solid films, 1976-10, Vol.38 (2), p.L9-L12
1976
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