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Analysis of high-rate a-Si:H deposition in a VHF plasma
Journal of physics. D, Applied physics, 1993-10, Vol.26 (10), p.1781-1786
1993
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Plasma-assisted partial oxidation of methane to synthesis gas in a dielectric barrier discharge
Applied catalysis. A, General, 2004-04, Vol.261 (1), p.19-24
2004
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Role of higher silanes in the plasma-induced deposition of amorphous silicon from silane
Applied physics letters, 1989-04, Vol.54 (14), p.1320-1322
1989
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Detection of SiH2 radicals in an a-Si:H deposition plasma by laser-induced fluorescence
Journal of physics. D, Applied physics, 1995-12, Vol.28 (12), p.2470-2472
1995
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Atomic scale study of local TiSi2/Si epitaxies
Journal of applied physics, 1990-02, Vol.67 (4), p.1820-1825
1990
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Characterization of polycrystalline and amorphous silicon films by angle-resolved light scattering
Journal of physics. D, Applied physics, 1993-02, Vol.26 (2), p.271-280
1993
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Oxygen impurity effects on the formation of thin titanium silicide films by rapid thermal annealing
Journal of physics. D, Applied physics, 1990-08, Vol.23 (8), p.1076-1081
1990
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Measurement of the angular distributions of particles in air showers
Physical review. D, Particles and fields, 1992-10, Vol.46 (7), p.2831-2845
1992
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