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Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Photodetectors on the basis of Ge/Si(001) heterostructures grown by the hot-wire CVD technique
Ist Teil von
  • Semiconductors (Woodbury, N.Y.), 2015-10, Vol.49 (10), p.1365-1368
Ort / Verlag
Moscow: Pleiades Publishing
Erscheinungsjahr
2015
Quelle
SpringerNature Journals
Beschreibungen/Notizen
  • The fabrication of photodetectors for the wavelength range of communications λ = 1.3–1.55 µm on the basis of Ge/Si(001) heterostructures with thick (~0.5 µm) Ge layers grown by the hot-wire technique at reduced growth temperatures (350°C) is reported. The single-crystal Ga layers are distinguished by a low density of threading dislocations (~10 5 cm –2 ). The photodetectors exhibit a rather high quantum efficiency (~0.05 at λ = 1.5 µm and 300 K) at moderate reverse saturation current densities (~10 –2 A cm –2 ). Thus, it is shown that the hot-wire technique offers promise for the formation of integrated photodetectors for the wavelength range of communications, especially in the case of limitations on the conditions of heat treatments.
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 1063-7826
eISSN: 1090-6479
DOI: 10.1134/S1063782615100231
Titel-ID: cdi_osti_scitechconnect_22469715

Weiterführende Literatur

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