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Thermal characterization of GaN heteroepitaxies using ultraviolet transient thermoreflectanceProject supported by the Young Scientists Fund of the National Natural Science Foundation of China (Grant No. 61604049) and the Shenzhen Municipal Research Project (Grant No. JCYJ20160531192714636)
Ist Teil von
Chinese physics B, 2019-06, Vol.28 (6)
Ort / Verlag
Chinese Physical Society and IOP Publishing Ltd
Erscheinungsjahr
2019
Link zum Volltext
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Beschreibungen/Notizen
Thermal transport properties of GaN heteroepitaxial structures are of critical importance for the thermal management of high-power GaN electronic and optoelectronic devices. Ultraviolet (UV) lasers are employed to directly heat and sense the GaN epilayers in the transient thermoreflectance (TTR) measurement, obtaining important thermal transport properties in different GaN heterostructures, which include a diamond thin film heat spreader grown on GaN. The UV TTR technique enables rapid and non-contact thermal characterization for GaN wafers.