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Formation of SiH 3 Radicals and Nanoparticles in SiH 4 –H 2 Plasmas Observed by Time-Resolved Cavity Ringdown Spectroscopy
Japanese Journal of Applied Physics, 2008-09, Vol.47 (9R), p.7032
2008

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Formation of SiH 3 Radicals and Nanoparticles in SiH 4 –H 2 Plasmas Observed by Time-Resolved Cavity Ringdown Spectroscopy
Ist Teil von
  • Japanese Journal of Applied Physics, 2008-09, Vol.47 (9R), p.7032
Erscheinungsjahr
2008
Link zum Volltext
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 0021-4922
eISSN: 1347-4065
DOI: 10.1143/JJAP.47.7032
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1143_JJAP_47_7032
Format
–

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