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XPS Analysis of α-B/C:H film Deposited by ICRF Boronization
Plasma science & technology, 2000-06, Vol.2 (3), p.317-322
2000

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
XPS Analysis of α-B/C:H film Deposited by ICRF Boronization
Ist Teil von
  • Plasma science & technology, 2000-06, Vol.2 (3), p.317-322
Ort / Verlag
IOP Publishing
Erscheinungsjahr
2000
Link zum Volltext
Quelle
Alma/SFX Local Collection
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISSN: 1009-0630
DOI: 10.1088/1009-0630/2/3/009
Titel-ID: cdi_crossref_primary_10_1088_1009_0630_2_3_009
Format
–

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