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Autor(en)
Dallorto, Stefano
Artikel
Atomic layer etching of SiO2 with Ar and CHF3 plasmas: A self‐limiting process for aspect ratio independent etching
Titel
Plasma processes and polymers.
Verlag
Wiley-VCH Verlag & Co KGaA,
Ort
Weinheim :
Erscheinungsjahr
©2004-
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