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Autor(en)
Cheol Jin Chung
Artikel
Electrical and Optical Properties of Nitrogen-Incorporated Silicon-Oxide Films by Using Plasma-Enhanced Chemical-Vapor Deposition with Tetramethoxysilane /N2O/NH3 Gas
Titel
The journal of the Korean Physical Society.
Verlag
Korean Physical Society
Ort
Seoul, Korea :
Erscheinungsjahr
1968
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