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Autor(en)
Huang, Y H
Artikel
Scatterometry measurement for gate ADI and AEI CD of 28nm metal gates
Titel
Solid state technology
Seiten
11-13
Band
54
Heft
8
Verlag
Cowan Pub Corp
Ort
Port Washington, N.Y.
Erscheinungsjahr
2011
Identifikatoren
ISSN: 0038-111X
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