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Autor(en)

Cui, Suihan

Artikel

High-precision modeling of dynamic etching in high-power magnetron sputtering

Titel

Journal of physics

Seiten

325203-

Band

55

Heft

32

Verlag

IOP Publ

Ort

Bristol

Erscheinungsjahr

2022

Identifikatoren

ISSN: 0022-3727, 0508-3443; eISSN: 1361-6463

Volltextzugriff (PDF)

• Freie Ressource

  EZB-NALI9-00469 IOP Journals Complete NK

  Verfügbar von 1968 Band: 1.;