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Autor(en)

SHIMIZU, K

Artikel

Stoichiometry measurement and electric characteristics of thin-film Ta2O5 insulator for ultra-large-scale integration

Titel

Journal of Applied Physics

Seiten

375-380

Band

74

Heft

1

Verlag

American Institute of Physics

Ort

Melville, NY

Erscheinungsjahr

1993

Identifikatoren

ISSN: 0021-8979; eISSN: 1089-7550

Volltextzugriff (PDF)

• Freie Ressource

  AIP Journals Complete

  Verfügbar von 1931 Band: 1 Heft: 1.;
• Freie Ressource

  EZB-NALIJ-00479 AIP Archive NL

  Verfügbar von 1931 Band: 1 bis 2013 Band: 114.;