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Autor(en)

Miura, Kenta

Artikel

Effects of Si-Layer-Thickness Ratio on UV-Light-Emission Intensity from Si/SiO 2 Multilayered Thin Films Prepared Using Radio-Frequency Sputtering

Titel

Materials sciences and applications

Seiten

215-219

Band

6

Heft

3

Verlag

Scientific Research Publishing

Ort

Irvine, Calif.

Erscheinungsjahr

2015

Identifikatoren

ISSN: 2153-117X; eISSN: 2153-1188

Volltextzugriff (PDF)

• Freie Ressource

  In der EZB frei verfügbare Zeitschriften

  Verfügbar von 2010 Band: 1 Heft: 1.;