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Autor(en)
Materials Research Society
Artikel
Stress Distribution in Ultra Thin SiO2 Film/Si Substrate System Measured by a Low Level Birefringence Detection Technique
Titel
Materials Research Society symposia proceedings
Verlag
North-Holland
Ort
New York [u.a.]
Erscheinungsjahr
1981-
Leider kein Volltext verfügbar.
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