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Autor(en)
Zhang, Jianming
Artikel
Mechanisms of SiO2 film deposition from tetramethylcyclotetrasiloxane, dimethyldimethoxysilane, and trimethylsilane plasmas
Titel
Journal of vacuum science and technology JVST ; an AVS journal
Verlag
Inst.
Ort
New York, NY
Erscheinungsjahr
1983-
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