Sie befinden Sich nicht im Netzwerk der Universität Paderborn. Der Zugriff auf elektronische Ressourcen ist gegebenenfalls nur via VPN oder Shibboleth (DFN-AAI) möglich. mehr Informationen...
Link-Resolver
Autor(en)
Chaker, A.
Artikel
Understanding the mechanisms of interfacial reactions during TiO 2 layer growth on RuO 2 by atomic layer deposition with O 2 plasma or H 2 O as oxygen source
Titel
Journal of Applied Physics
Verlag
American Institute of Physics
Ort
Melville, NY :
Erscheinungsjahr
1937
Es wurden folgende elektronische Volltexte gefunden