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Chemical mechanical polishing in silicon processing
Semiconductors and semimetals : 63
(
Alle Bände
)
Li, Shin Hwa
[Herausgeber]
2000
Signatur:
UIU1733-63
Details
Autor(en) / Beteiligte
Li, Shin Hwa
[Herausgeber]
Titel
Chemical mechanical polishing in silicon processing
Ist Teil von
Semiconductors and semimetals : 63
(
Alle Bände
)
Ort / Verlag
San Diego [u.a.] : Acad. Press
Erscheinungsjahr
2000
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Inhaltsverzeichnis
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISBN: 0127521720
OCLC-Nummer: 1072869322, 1072869322
Titel-ID: 990008114270106463
Format
XV, 307 S. : Ill., zahlr. graph. Darst.
Systemstelle
UIU
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