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Rastertunnelmikroskopische Untersuchung der Adsorption und Reaktion von O 2, N 2 O, NO 2 und NO auf Si(100) und das Wachstum von Pt auf reinem und oxidiertem Si(100)
1997
Signatur: D11270

Details

Autor(en) / Beteiligte
Titel
Rastertunnelmikroskopische Untersuchung der Adsorption und Reaktion von O 2, N 2 O, NO 2 und NO auf Si(100) und das Wachstum von Pt auf reinem und oxidiertem Si(100)
Erscheinungsjahr
1997
Beschreibungen/Notizen
  • Bochum, Univ., Diss., 1997
Sprache
–
Identifikatoren
OCLC-Nummer: 174188243, 174188243
Titel-ID: 990007196380106463
Format
145 S. : Ill., graph. Darst.
Systemstelle
UFF

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