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BibTeX
Glow discharge processes : sputtering and plasma etching
Chapman, Brian
1980
Signatur:
UFQ1359
Details
Autor(en) / Beteiligte
Chapman, Brian
Titel
Glow discharge processes : sputtering and plasma etching
Ort / Verlag
New York [u.a.] : Wiley
Erscheinungsjahr
1980
Sprache
Englisch
Identifikatoren
ISBN: 047107828X
OCLC-Nummer: 833904903, 833904903
Titel-ID: 990000133500106463
Format
XV, 406 S. : Ill., graph. Darst.
Systemstelle
UFQ
Schlagworte
Glimmentladung
,
Zerstäubung
,
Gasentladungsprozeß
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