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  • BibTeX
Versatile High Rate Plasma Deposition and Processing with very high Frequency Excitation
MRS proceedings, 1997, Vol.467, p.471-482, Article 471
1997
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The mechanism of plasma-induced deposition of amorphous silicon from silane
Plasma chemistry and plasma processing, 1990-03, Vol.10 (1), p.3-26
1990
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Highly Conductive p-type Microcrystalline Silicon Thin Films
MRS proceedings, 1996, Vol.420, Article 277
1996
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Analysis of functional groups on the surface of plasma-treated carbon nanofibers
Analytical and bioanalytical chemistry, 2003-04, Vol.375 (7), p.875-883
2003
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The Effect of Hydrogen Dilution on the Hot-Wire Deposition of Microcrystalline Silicon
MRS proceedings, 1996, Vol.420, Article 295
1996
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Hall-Effect and Sign Properties in Hydrogenated Amorphous and Disordered Crystalline Silicon
MRS proceedings, 1996, Vol.420, Article 813
1996
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Mechanism of High Rate a-Si:H Deposition in a VHF Plasma
MRS proceedings, 1993, Vol.297, Article 49
1993
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Vibrational Spectra of a-Si:H Obtained by Pds
MRS proceedings, 1991, Vol.219, Article 229
1991
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Deposition of a-Ge:H in a Remote Plasma System
MRS proceedings, 1990, Vol.192, Article 565
1990
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  • BibTeX
From the Understanding of the Reaction Mechanism Towards Optimizing the Deposition Rate and Optoelectronic Properties of a-Si:H
MRS proceedings, 1989, Vol.149, Article 3
1989
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  • BibTeX
Kinematic analysis of laryngeal movements in patients with neurogenic dysphagia before and after swallowing rehabilitation
Dysphagia, 2000, Vol.15 (4), p.173-179
2000
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  • BibTeX
Deglutition disorders in neurological patients. A prospective study of diagnosis, pattern of impairment, therapy and outcome
Nervenarzt, 2002-04, Vol.73 (4), p.364-370
2002
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  • BibTeX
Schluckstörungen bei neurologischen Patienten
Nervenarzt, 2002-04, Vol.73 (4), p.364-370
2002
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  • BibTeX
Microcrystalline Silicon Thin film Growth and Simultaneous Etching of Amorphous Material
MRS proceedings, 1994, Vol.358, Article 733
1994
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  • BibTeX
Charge Carrier Absorption in Doped Microcrystalline Silicon Films
MRS proceedings, 1996, Vol.452, Article 815
1996
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An Approach to High Quality a-Ge:H by VHF Deposition
MRS proceedings, 1993, Vol.297, Article 55
1993
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  • BibTeX
Atomic Scale Study of Cosi/Si (111) and CoSi2/Si (111) Interfaces
MRS proceedings, 1989, Vol.159
1989
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Microstructural Investigation of the TiSi2/Si (111) Interface
MRS proceedings, 1989, Vol.139, Article 369
1989
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Atomic Scale Study of Cosi/Si (111) and CoSi 2 /Si (111) Interfaces
MRS proceedings, 1989, Vol.159, Article 147
1989
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  • BibTeX
Structural Properties of High Electronic Quality a-Si1-xCx:H by Infrared Spectroscopy
MRS proceedings, 1992, Vol.258
1992
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Structural Properties of High Electronic Quality a-Si 1-x C x :H by Infrared Spectroscopy
MRS proceedings, 1992, Vol.258, Article 673
1992
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  • BibTeX
The impact of a dielectric barrier discharge on the catalytic oxidation of methane over Ni-containing catalyst
Reaction kinetics and catalysis letters, 2004, Vol.82 (1), p.131-137
2004
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Methane oxidation in a dielectric barrier discharge. the impact of discharge power and discharge gap filling
Reaction kinetics and catalysis letters, 2004, Vol.82 (1), p.111-119
2004
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  • BibTeX
Mechanisms of Plasma Induced Silicon Deposition and the Control of the Properties of the Deposit
MRS proceedings, 1988, Vol.118, Article 3
1988
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  • BibTeX
Recommendations for conducting controlled clinical studies of dental restorative materials
Clinical oral investigations, 2007-03, Vol.11 (1), p.5-33
2007
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