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The challenges of colour for wafer inspection from the viewpoint of partially coherent imaging theory
Microelectronic engineering, 1995-11, Vol.26 (3), p.195-215
1995
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Superresolution lithography from the viewpoint of partially coherent imaging theory Part I: Line and space structures
Microelectronic engineering, 1995, Vol.26 (2), p.71-92
1995
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Investigations into the spectral behaviour of wafers and the CD-measurement
Microelectronic engineering, 1996-01, Vol.30 (1-4), p.583-585
1996
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Superresolution lithography from the viewpoint of partially coherent imaging theory Part II: Isolated structures
Microelectronic engineering, 1995, Vol.26 (2), p.93-106
1995
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Physical limits of “superresolution lithography”
Microelectronic engineering, 1994, Vol.23 (1), p.179-182
1994
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Optical image processing - a useful tool in wafer inspection
Microelectronic engineering, 1994, Vol.23 (1), p.391-394
1994
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Superresolution lithography form the viewpoint of partially coherent imaging theory. II: Isolated structures
Microelectronic engineering, 1995, Vol.26 (2), p.93-106
1995
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Superresolution lithography from the viewpoint of partially coherent imaging theory. I: Line and space structures
Microelectronic engineering, 1995, Vol.26 (2), p.71-92
1995
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