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Characterization and modeling of edge direct tunneling (EDT) leakage in ultrathin gate oxide MOSFETs
IEEE transactions on electron devices, 2001-06, Vol.48 (6), p.1159-1164
2001
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Edge hole direct tunneling leakage in ultrathin gate oxide p-channel MOSFETs
IEEE transactions on electron devices, 2001-12, Vol.48 (12), p.2790-2795
2001
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To optimize electrical properties of the ultrathin (1.6 nm) nitride/oxide gate stacks with bottom oxide materials and post-deposition treatment
IEEE transactions on electron devices, 2001-12, Vol.48 (12), p.2769-2776, Article 2769
2001
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Chip-packaging interaction in Cu/very low-k interconnect
2009 IEEE International Interconnect Technology Conference, 2009, p.143-145
2009
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A self-aligned airgap interconnect scheme
2009 IEEE International Interconnect Technology Conference, 2009, p.146-148
2009
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Improvement of window profile and metal step coverage for submicron CMOS devices
1991 Proceedings Eighth International IEEE VLSI Multilevel Interconnection Conference, 1991, p.429-431
1991
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Robust n/sup +//p/sup +/ dual-gate cmos device fabrication using dopant drive-out technique
International Electron Devices and Materials Symposium, 1994, p.5-5
1994
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Low threshold voltage CMOS devices with smooth topography for 1 volt applications
Proceedings of 1994 IEEE International Electron Devices Meeting, 1994, p.489-492
1994
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NEW ROBUST n + / p + DUAL-GATE CMOS TECHNOLOGY OPTIMIZED FOR LOW POWER OPERATION
International journal of high speed electronics, 1994-06, Vol.5 (2), p.135-143
1994
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Open Access
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Investigation of characteristics of residents in RCHEs associated with MRSA colonization after implementation of infection control training program
International journal of infectious diseases, 2018-08, Vol.73, p.104-105
2018
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