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A Review of Ion Implantation Technology for Image Sensors
Sensors (Basel, Switzerland), 2018-07, Vol.18 (7), p.2358
2018
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SEN Ultra-High Energy Implanter (UHE) Developed for Next Generation Image Sensors
AIP conference proceedings, 2010, Vol.1321 (1)
2010
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Introduction of the MC3-II/WR System, an Extended Energy Medium Current Ion Implanter
AIP conference proceedings, 2008, Vol.1066 (1), p.269-272
2008
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Introduction of the MC3-II/GP system, medium current ion implanter with enhanced multi-charge beam current
AIP conference proceedings, 2012, Vol.1496 (1)
2012
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Accurate Dose Control with Pressure Compensation System on Single-Wafer Ion Implanters
AIP conference proceedings, 2008, Vol.1066 (1), p.141-144
2008
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Introduction of the SHX-III System, a Single-Wafer High-Current Ion Implanter
AIP conference proceedings, 2008, Vol.1066 (1), p.292-295
2008
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Profile and Angle Measurement System of SHX
Ion Implantation Technology, 2006, Vol.866, p.393-396
2006
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Reduction of the Wafer Pattern Damage on the Batch-type High Current Ion Implanters
Ion Implantation Technology, 2006, Vol.866, p.457-459
2006
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Channeled MeV B, P and As Profiles in Si(100): Monte-Carlo Models and SIMS
2018 22nd International Conference on Ion Implantation Technology (IIT), 2018, p.251-254
2018
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Implant Angle Deviation Reduction in Batch-Type High Energy Implanter
Ion Implantation Technology, 2006, Vol.866, p.397-400
2006
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Thickness Variance of Silicon Oxide with Nitrogen Ion Implant
2018 22nd International Conference on Ion Implantation Technology (IIT), 2018, p.140-143
2018
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Change of Depth Profile for High-Temperature Implantation in Channeling Condition
2018 22nd International Conference on Ion Implantation Technology (IIT), 2018, p.62-65
2018
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MARLOWE Simulation of High Energy Ions into Single Crystalline Silicon Substrates
2018 22nd International Conference on Ion Implantation Technology (IIT), 2018, p.271-274
2018
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Method of Beam Energy Adjustment by Using Beam Parallelism
2016 21st International Conference on Ion Implantation Technology (IIT), 2016, p.1-4
2016
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Evaluation of Ion Angle Deviation Caused by Outgassing during Ion Implantation
2018 22nd International Conference on Ion Implantation Technology (IIT), 2018, p.303-306
2018
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High & Low Dose USJ Implantation into Ge-Epi on Si Wafers: Dopant Activation, Damage Recovery and Mobility Effects
2016 21st International Conference on Ion Implantation Technology (IIT), 2016, p.1-4
2016
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Process Robustness against Photoresist Outgassing in Single-Wafer High-Energy Implanters
2016 21st International Conference on Ion Implantation Technology (IIT), 2016, p.1-4
2016
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Surface Strained Ge-Cz Wafers by Sn-Implantation for High Electron and Hole Mobility
2016 21st International Conference on Ion Implantation Technology (IIT), 2016, p.1-4
2016
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Feasibility study of plasma doping using B2H6 and PH3 for shallow junction
11th International Workshop on Junction Technology (IWJT), 2011, p.26-29
2011
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Accurate Dose Control in High Pressure Condition on Medium Current Ion Implanters
2007 International Workshop on Junction Technology, 2007, p.127-128
2007
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Requirements of the Low Energy Boron Halo Implantation for the Next Generation of LOP/LSTP Devices
2007 International Workshop on Junction Technology, 2007, p.121-124
2007
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Plasma electron flood for a scanned beam implanter
Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, p.315-318
2002
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Dose monitoring of heavy ion implantation by Therma-Wave signal
Ion Implantation Technology. 2002. Proceedings of the 14th International Conference on, 2002, p.248-251
2002
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Automatic generation of pressure compensation factors
1998 International Conference on Ion Implantation Technology. Proceedings (Cat. No.98EX144), 1999, Vol.1, p.562-565 vol.1
1999
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Automatic LINAC parameter generation
1998 International Conference on Ion Implantation Technology. Proceedings (Cat. No.98EX144), 1999, Vol.1, p.330-333 vol.1
1999
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