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2021
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2023
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2020
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2020
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2021
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2022
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TrAC, Trends in analytical chemistry (Regular ed.), 2021-04, Vol.137, p.116211, Article 116211
2021
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Microchemical journal, 2022-08, Vol.179, p.107476, Article 107476
2022
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Chemical physics letters, 2022-04, Vol.792, p.139382, Article 139382
2022
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Chemical physics letters, 2021-11, Vol.783, p.139039, Article 139039
2021
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2023
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2020
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2020
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Applied surface science, 2006-09, Vol.252 (23), p.8073-8076
2006
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Mikrochimica acta (1966), 2021-06, Vol.188 (6)
2021
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Influence of preparing process on total-dose radiation response of high- k Hf-based gate dielectrics
2008
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Microelectronic engineering, 2009-12, Vol.86 (12), p.2404-2407
2009
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Microelectronic engineering, 2008-09, Vol.85 (9), p.1888-1891
2008
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Microelectronic engineering, 2005-07, Vol.81 (1), p.150-155
2005
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Journal of semiconductors, 2012-05, Vol.33 (5), p.54003-1-4
2012
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Solid-state electronics, 2005, Vol.49 (1), p.43-48
2005
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Journal of agricultural and food chemistry, 2015-07, Vol.63 (28), p.6338-6345
2015
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