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Self-organized nanostructures in the Ti–Al–N system
Applied physics letters, 2003-09, Vol.83 (10), p.2049-2051
2003
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The location and effects of Si in (Ti 1– x Si x )N y thin films
Journal of materials research, 2009-08, Vol.24 (8), p.2483-2498
2009
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Influence of Si on the microstructure of arc evaporated (Ti,Si)N thin films; evidence for cubic solid solutions and their thermal stability
Surface & coatings technology, 2005-11, Vol.200 (5), p.1535-1542
2005
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Structure and mechanical properties of arc evaporated Ti–Al–O–N thin films
Surface & coatings technology, 2007-04, Vol.201 (14), p.6392-6403
2007
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Ti–Si–C–N thin films grown by reactive arc evaporation from Ti3SiC2 cathodes
Journal of materials research, 2011-04, Vol.26 (7), p.874-881
2011
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The location and effects of Si in (Ti1–xSix)Ny thin films
Journal of materials research, 2009-08, Vol.24 (8), p.2483-2498
2009
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Layer formation by resputtering in Ti–Si–C hard coatings during large scale cathodic arc deposition
Surface & coatings technology, 2011, Vol.205 (15), p.3923-3930
2011
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Thermal stability, microstructure and mechanical properties of Ti 1 − x Zr x N thin films
Thin solid films, 2008, Vol.516 (18), p.6421-6431
2008
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Mechanical properties and machining performance of Ti 1− x Al x N-coated cutting tools
Surface & coatings technology, 2005, Vol.191 (2-3), p.384
2005
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Thermal stability of arc evaporated high aluminum-content Ti 1−x Al x N thin films
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2002-09, Vol.20 (5), p.1815-1823
2002
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The location and effects of Si in (Ti(1-x)Si(x)N(Y)thin films
Journal of materials research, 2009-08, Vol.24 (8), p.2483-2498
2009
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Ti–Si–C–N thin films grown by reactive arc evaporation from Ti 3 SiC 2 cathodes
Journal of materials research, 2011-04, Vol.26 (7), p.874-881
2011
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