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Thermally assisted ECR etching of CdTe in CCl 2F 2/Ar discharge under different gas flow ratio
Materials science in semiconductor processing, 2010, Vol.13 (2), p.102-104
2010
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Thermally assisted ECR etching of CdTe in CCl2F2/Ar discharge under different gas flow ratio
Materials science in semiconductor processing, 2010-04, Vol.13 (2), p.102-104
2010
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ECR plasma etching of GaAs in CCl 2F 2/Ar/O 2 discharge and IR studies of the etched surface
Current applied physics, 2005, Vol.5 (4), p.351-355
2005
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ECR plasma etching of GaAs in CCl2F2/Ar/O2 discharge and IR studies of the etched surface
Current applied physics, 2005-05, Vol.5 (4), p.351-355
2005
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Spectroscopic study of sulforhodamine 640-doped sol–gel silica
Journal of luminescence, 2005-08, Vol.114 (2), p.162-166
2005
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