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Optima XE Single Wafer High Energy Ion Implanter
AIP conference proceedings, 2008, Vol.1066 (1), p.273-276
2008
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Air-enhanced contact cooling of wafers
Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms, 1985, Vol.6 (1), p.237-242
1985
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The control of uniformity in parallel ribbon ion beams up to 24 inches in size
AIP conference proceedings, 1999, Vol.475 (1)
1999
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Design considerations of a VLSI compatible production MeV ion implantation system
Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms, 1987, Vol.21 (1), p.285-295
1987
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Performance characteristics of the Genus Inc. IX-1500 high energy ion implantation system
Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms, 1989-02, Vol.37, p.478-485
1989
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