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Structural and magnetic properties of copper oxide films deposited by DC magnetron reactive sputtering
Applied physics. A, Materials science & processing, 2018-10, Vol.124 (10), p.1-5, Article 723
2018
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On the relation between damage rate and stress level evolution in α-Cr2O3 thin films growing on Ni-33at%Cr
Corrosion science, 2009-09, Vol.51 (9), p.2246-2248
2009
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Effect of an electrodeposited yttrium containing thin film on the high-temperature oxidation behaviour of TA6V alloy
Applied surface science, 2007-01, Vol.253 (7), p.3425-3431
2007
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Deposition of yttrium-based thin films on TA6V alloy substrates
Applied surface science, 2004-09, Vol.236 (1-4), p.50-56
2004
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On the relation between damage rate and stress level evolution in a-Cr(2)O(3) thin films growing on Ni-33at%Cr
Corrosion science, 2009-09, Vol.51 (9), p.2246-2248
2009
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On the relation between damage rate and stress level evolution in α-Cr 2O 3 thin films growing on Ni–33at%Cr
Corrosion science, 2009, Vol.51 (9), p.2246-2248
2009
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On dipping of γ-TiAl in low-concentration phosphoric acid solution and consecutive oxidation resistance at 800 °C
Scripta materialia, 2007-03, Vol.56 (6), p.517-520
2007
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Open Access
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Elaboration and characterization of thin solid films containing cerium
Physics procedia, 2009, Vol.2 (3), p.737-743
2009
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On dipping of gamma-TiAl in low-concentration phosphoric acid solution and consecutive oxidation resistance at 800 deg C
Scripta materialia, 2007-03, Vol.56 (6), p.517-520
2007
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