Sie befinden Sich nicht im Netzwerk der Universität Paderborn. Der Zugriff auf elektronische Ressourcen ist gegebenenfalls nur via VPN oder Shibboleth (DFN-AAI) möglich. mehr Informationen...
Sortiert nach
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
Process simplification as a continuous improvement methodology
1997 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing Conference Proceedings (Cat. No.97CH36023), 1997, p.P119-P121
1997
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
Development of new methodology and technique to accelerate region yield improvement
IEEE/SEMI 1998 IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop (Cat. No.98CH36168), 1998, p.82-85
1998
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
The Influence of Tungsten Contact Filling on Junction Quality and Contact Resistance
ESSDERC '89: 19th European Solid State Device Research Conference, 1989, p.653-656
1989
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
Gate Oxide Reliability in a Sealed Interface Local Oxidation Scheme
ESSDERC '89: 19th European Solid State Device Research Conference, 1989, p.361-365
1989
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
The use of TiSi/sub 2/ local interconnect as an effective contact etch barrier
Seventh International IEEE Conference on VLSI Multilevel Interconnection, 1990, p.486-488
1990
Link zum Volltext
Verfügbarkeit prüfen
1 – 5 von 5
Suche als RSS-Feed
Suchergebnisse filtern
Filter anzeigen