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Capped carbon hard mask and trimming process: A low-cost and efficient route to nanoscale devices
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 2013-03, Vol.31 (2)
2013
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Low-Crosstalk Fabrication-Insensitive Echelle Grating Demultiplexers on Silicon-on-Insulator
IEEE photonics technology letters, 2015-03, Vol.27 (5), p.494-497
2015
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Patterning Strategy for Monoelectronic Device Platform in a Complementary Metal Oxide Semiconductor Technology
Japanese Journal of Applied Physics, 2011-06, Vol.50 (6), p.06GF15-06GF15-5
2011
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Patterning Strategy for Monoelectronic Device Platform in a Complementary Metal Oxide Semiconductor Technology
Japanese Journal of Applied Physics, 2011-06, Vol.50 (6S), p.6
2011
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Advances toward temperature-independent and fabrication-insensitive (de)multiplexer in the O-band
2015 IEEE 12th International Conference on Group IV Photonics (GFP), 2015, p.43-44
2015
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