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Open Access
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Mechanistic Studies on the CD Degradation of 193nm Resists during SEM Inspection
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2001, Vol.14(3), pp.407-417
2001
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Development of a photoemission microscope: MAXIMUM and its application to semiconductor interfaces
1994
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Installation of the MAXIMUM microscope at the Advanced Light Source
Review of scientific instruments, 1996-09, Vol.67 (9)
1996
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The advent of CD-SEM technologies for metrology on advanced photomasks
Digest of Papers. Microprocesses and Nanotechnology '99. 1999 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, 1999, p.186
1999
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Yield impact of cross-field and cross-wafer CD spatial uniformity : Collapse of the deep-UV and 193nm lithographic focus window
1999
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A systems approach to gate CD control: metrology, throughput, and OEE
1997 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing Conference Proceedings (Cat. No.97CH36023), 1997, p.B53-B57
1997
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Open Access
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Severely Crusted Cheilitis as an Initial Presentation of Systemic Lupus Erythematosus
Indian journal of dermatology, 2017-07, Vol.62 (4), p.440-440
2017
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