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Thermal Atomic Layer Etching of Nickel Using Sequential Chlorination and Ligand-Addition Reactions
Chemistry of materials, 2021-12, Vol.33 (23), p.9174-9183
2021
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In Situ Thermal Atomic Layer Etching for Sub‑5 nm InGaAs Multigate MOSFETs
Nano letters, 2019-08, Vol.19 (8), p.5159-5166
2019
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Effect of crystallinity on thermal atomic layer etching of hafnium oxide, zirconium oxide, and hafnium zirconium oxide
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2020-03, Vol.38 (2)
2020
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Thermal atomic layer etching of cobalt using sulfuryl chloride for chlorination and tetramethylethylenediamine or trimethylphosphine for ligand addition
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2023-05, Vol.41 (3)
2023
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Thermal atomic layer etching of CoO using acetylacetone and ozone: Evidence for changes in oxidation state and crystal structure during sequential exposures
Applied surface science, 2023-11, Vol.638, p.157923, Article 157923
2023
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Thermal atomic layer etching of amorphous and crystalline Al2O3 films
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2021-07, Vol.39 (4)
2021
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Thermal atomic layer etching of germanium-rich SiGe using an oxidation and “conversion-etch” mechanism
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2021-03, Vol.39 (2)
2021
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Thermal Atomic Layer Etching of Gold Using Sulfuryl Chloride for Chlorination and Triethylphosphine for Ligand Addition
Chemistry of materials, 2024-05, Vol.36 (10), p.5149-5159
2024
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Thermal Atomic Layer Etching of CoO, ZnO, Fe2O3, and NiO by Chlorination and Ligand Addition Using SO2Cl2 and Tetramethylethylenediamine
Chemistry of materials, 2023-03, Vol.35 (5), p.2058-2068
2023
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Thermal Atomic Layer Etching of CoO, ZnO, Fe 2 O 3 , and NiO by Chlorination and Ligand Addition Using SO 2 Cl 2 and Tetramethylethylenediamine
Chemistry of materials, 2023-03, Vol.35 (5), p.2058-2068
2023
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Thermal Atomic Layer Etching of Amorphous and Crystalline Hafnium Oxide, Zirconium Oxide, and Hafnium Zirconium Oxide
2019 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Application (VLSI-TSA), 2019, p.1-2
2019
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Thermal Atomic Layer Etching of Crystalline Metal Oxides and Metals
2022
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(Invited) Ligand Addition for Thermal Atomic Layer Etching of Metals
Meeting abstracts (Electrochemical Society), 2022-10, Vol.MA2022-02 (31), p.1117-1117
2022
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In situ Thermal Atomic Layer Etching for Sub-5 nm InGaAs Multi-gate MOSFETs
Nano letters, 2019-06
2019
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First Transistor Demonstration of Thermal Atomic Layer Etching: InGaAs FinFETs with sub-5 nm Fin-width Featuring in situ ALE-ALD
2018 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM), 2018, p.39.1.1-39.1.4
2018
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