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Precise Depth Control of Silicon Etching Using Chlorine Atomic Layer Etching
Japanese Journal of Applied Physics, 2005-01, Vol.44 (1R), p.389
2005
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Development and evaluation of highly efficient neutral beam source
Surface & coatings technology, 2007-08, Vol.201 (19), p.8601-8605
2007
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Etching characteristics of SrBi2Ta2O9 film with Ar/CHF3 plasma
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2000-07, Vol.18 (4), p.1354-1358
2000
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Effects of Tin Concentration on the Electrical Properties of Room-Temperature Ion-Beam-Assisted-Evaporation-Deposited Indium Oxide Thin Films
Japanese Journal of Applied Physics, 2002-09, Vol.41 (Part 2, No. 9A/B), p.L999-L1001
2002
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Atomic Layer Etching of Cl-Adsorbed Silicon by Using a Low-Angle Forward Reflected Ar Neutral Beam
Journal of the Korean Physical Society, 2005, 47(2), , pp.469-473
2005
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CF4-Based Neutral-Beam Etch Characteristics of Si and SiO2 Using a Low-Angle Forward-Reflected Neutral-Beam Etching System
Journal of the Korean Physical Society, 2006, 49(III), , pp.2307-2310
2006
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Nanostructures Fabrication on Ta Thin Film Using Atomic Force Microscope Lithography
Molecular crystals and liquid crystals (Philadelphia, Pa. : 2003), 2006-03, Vol.445 (1), p.115/[405]-118/[408]
2006
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Removal of Aspect Ratio Dependent Etching by Low angle Forward Reflected Neutral Beam Etching
Journal of the Korean Physical Society, 2005, 46(4), , pp.867-871
2005
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Etching characteristics of SrBi sub(2)Ta sub(2)O sub(9) film with Ar/CHF sub(3) plasma
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 2000-07, Vol.18 (4 I), p.1354-1358
2000
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Etching characteristics of SrBi 2 Ta 2 O 9 film with Ar/CHF 3 plasma
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 2000, Vol.18 (4), p.1354-1358
2000
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구리(Ⅱ) 킬레이트의 첨가에 의한 자유아미노산 광학이성질체의 역상 액체크로마토그래피적 분리
Journal of the Korean Chemical Society, 1992, Vol.36 (6), p.879-888
1992
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액체크로마토그래피에서 머무름거동에 대한 새로운 용해도파라미터
Journal of the Korean Chemical Society, 1988, Vol.32 (5), p.458-463
1988
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고성능 액체크로마토 그래피에 의한 Dansyl-아미노산 광학이성질체의 분리
Journal of the Korean Chemical Society, 1986, Vol.30 (2), p.216-223
1986
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역상 액체크로마토그래피에 있어서 이성분과 삼성분 이동상에 대한 페놀류의 머무름 거동
Journal of the Korean Chemical Society, 1986, Vol.30 (4), p.352-358
1986
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[화학] Achiral/Chiral Coupled Column법에 의한 식품 중의 D-아미노산의 정량분석
Punsŏk kwahak, 1996, Vol.9 (1), p.52-61
1996
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모세관 기체 크로마토그래피에 의한 치환된 Cyclodextrin 정지상을 이용한 알코올 유도체의 키랄분리
Journal of the Korean Chemical Society, 1995, Vol.39 (2), p.94-102
1995
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Column-Switching System을 이용한 우유속의 D-아미노산의 미량정량
Journal of the Korean Chemical Society, 1995, Vol.39 (4), p.257-265
1995
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Optical Resolution of Dansyl Amino Acids with Addition of Benzyl-L-Hydroxyproline Copper(II) Chelate by High Performance Liquid Chromatography
Bulletin of the Korean Chemical Society, 1989, Vol.10 (6), p.491-495
1989
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Enhancement of Ethanol Tolerance of Lactose Assimilating Yeast Strain by Protoplast Fusion
Journal of microbiology and biotechnology, 1991-01, Vol.1 (3), p.151-156
1991
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N-hexadecay-L-proline이 코팅된 역상 원심 액체크로마토그래피에 의한 아미노산 이성질체의 분리
Journal of the Korean Chemical Society, 1992, Vol.36 (6), p.849-856
1992
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전이금속산화물에 대한 다염소치환페놀류의 흡착과 산화 (제 1 보). ${\sigma}-MnO_2$(s)의 흡착특성과 환원성 용해
Journal of the Korean Chemical Society, 1991, Vol.35 (3), p.226-232
1991
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전이금속산화물에 대한 다염소치환페놀류의 흡착과 산화 (제1보). δ-MnO2(s)의 흡착특성과 환원성 용해
Journal of the Korean Chemical Society, 1991, Vol.35 (3), p.226-232
1991
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Xylenyl-L-proline 구리 (Ⅱ) 착물을 이용한 단실아미노산의 광학분리
Journal of the Korean Chemical Society, 1990, Vol.34 (1), p.76-84
1990
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HPLC 에서 페놀류의 구조 이성질체의 머무름 거동에 대한 전해질 용리액의 효과
Journal of the Korean Chemical Society, 1990, Vol.34 (1), p.44-50
1990
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키랄킬레이트 이동상첨가법에 의한 답실아미노산의 광학이성질체 분리
Journal of the Korean Chemical Society, 1990, Vol.34 (4), p.345-351
1990
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