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Improvement of retention loss in Pb(Zr,Ti)O3 capacitors using Ir∕SrRuO3 top electrodes
Applied physics letters, 2005-11, Vol.87 (21)
2005
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Novel Ir–Ti Alloy Electrodes for High-Density Ferroelectric Memory Applications
Japanese Journal of Applied Physics, 2005-06, Vol.44 (6R), p.4052
2005
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Vertical Structure NAND flash array integration with paired FinFET multi-bit scheme for high-density NAND flash memory application
2008 Symposium on VLSI Technology, 2008, p.120-121
2008
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Effect of Ultra Thin Bottom Electrode on the Ferroelectric Properties of Pb(Zr,Ti)O3 Films Grown by Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
Integrated ferroelectrics, 2005, Vol.70 (1), p.115-122
2005
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Improvement of retention loss in Pb ( Zr , Ti ) O 3 capacitors using Ir ∕ Sr Ru O 3 top electrodes
Applied physics letters, 2005-11, Vol.87 (21), p.212910-212910-3
2005
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Influence of purge gas on the characteristics of lead–zirconium–titanate thin films prepared by metalorganic chemical vapor deposition
Ceramics international, 2008-05, Vol.34 (4), p.1003-1006
2008
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Fabrication of 3-dimensional PbZr(1-x)Ti(x)O3 nanoscale thin film capacitors for high density ferroelectric random access memory devices
Journal of nanoscience and nanotechnology, 2006-11, Vol.6 (11), p.3333
2006
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Fabrication of 3-Dimensional PbZr 1− x Ti x O 3 Nanoscale Thin Film Capacitors for High Density Ferroelectric Random Access Memory Devices
Journal of nanoscience and nanotechnology, 2006-11, Vol.6 (11), p.3333-3337
2006
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CHARACTERIZATION OF NOVEL ELECTRODE FOR HIGH-DENSITY Pb(Zr, Ti)O3 CAPACITOR APPLICATION
Integrated ferroelectrics, 2006-11, Vol.81 (1), p.15-26
2006
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Metal-organic chemical vapor deposition of PbZrxTil-xO3 thin films on Ir-Ru alloy electrodes
Integrated ferroelectrics, 2006-01, Vol.84, p.57-65
2006
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METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF PbZrxTi1 -xO3 THIN FILMS ON Ir-Ru ALLOY ELECTRODES
Integrated ferroelectrics, 2006-11, Vol.84 (1), p.57-65
2006
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METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF PbZr x Ti 1 –x O 3 THIN FILMS ON Ir–Ru ALLOY ELECTRODES
Integrated ferroelectrics, 2006-11, Vol.84 (1), p.57-65
2006
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CHARACTERIZATION OF NOVEL ELECTRODE FOR HIGH-DENSITY Pb(Zr, Ti)O 3 CAPACITOR APPLICATION
Integrated ferroelectrics, 2006-11, Vol.81 (1), p.15-26
2006
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Effect of Ultra Thin Bottom Electrode on the Ferroelectric Properties of Pb(Zr,Ti)O 3 Films Grown by Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
Integrated ferroelectrics, 2005-04, Vol.70 (1), p.115-122
2005
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Paired FinFET Charge Trap Flash Memory for Vertical High Density Storage
2006 Symposium on VLSI Technology, 2006. Digest of Technical Papers, 2006, p.84-85
2006
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Effects of Pre-Deposition Gas Treatments for Pb(Zr,Ti)O3 Films on Ir Electrode Grown by MOCVD
Integrated ferroelectrics, 2005, Vol.70 (1), p.141-150
2005
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Effects of Pre-Deposition Gas Treatments for Pb(Zr,Ti)O 3 Films on Ir Electrode Grown by MOCVD
Integrated ferroelectrics, 2005-04, Vol.70 (1), p.141-150
2005
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Ferroelectric properties of sol-gel derived Pb(Zr,Ti)O3 capacitors grown on IrO2 electrode
Integrated ferroelectrics, 2001, Vol.37 (1-4), p.135-144
2001
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Ferroelectric properties of sol-gel derived Pb(Zr,Ti)O 3 capacitors grown on IrO 2 electrode
Integrated ferroelectrics, 2001-01, Vol.37 (1-4), p.135-144
2001
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Formation of Stoichiometric SrRuO[sub 3] Electrodes for PZT Capacitors by Pulsed-MOCVD
Electrochemical and solid-state letters, 2006, Vol.9 (10), p.C164
2006
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Fabrication of 3D trench PZT capacitors for 256Mbit FRAM device application
IEEE InternationalElectron Devices Meeting, 2005. IEDM Technical Digest, 2005, p.4 pp.-343
2005
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