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Characterization of half-pitch 15-nm metal wire circuit fabricated by directed self-assembly of polystyrene-block-poly(methyl methacrylate)
Microelectronic engineering, 2016-06, Vol.159, p.21-26
2016
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Fabrication of Sub-10 nm Metal Wire Circuits using Directed Self-Assembly of Block Copolymers
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2016/06/21, Vol.29(5), pp.647-652
2016
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Vertical Oriented Lamellar Formation of Fluorine- and Silicon-containing Block Copolymers without Neutral Layers
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2015/06/10, Vol.28(5), pp.649-652
2015
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A novel simple sub-15nm line-and-space patterning process flow using directed self-assembly technology
Microelectronic engineering, , Vol.134, p.27-32
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A Simulation Study on Defectivity in Directed Self-assembly Lithography
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2015/06/10, Vol.28(5), pp.683-688
2015
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Nanoimprint Lithography of 20-nm-Pitch Dot Array Pattern Using Tone Reversal Process
Japanese Journal of Applied Physics, 2013-10, Vol.52 (10), p.105201-105201-5
2013
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The Photopolymer Science and Technology Award
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2016/06/21, Vol.29(1), pp.11-15
2016
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A Challenge to the Micro-phase Separation Limit of PS-b-PMMA by Doping with Hydrophilic Materials
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2015/05/25, Vol.28(5), pp.617-622
2015
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Process Evaluation of Directed Self-assembly Lithography using Simulation Method based on Self-consistent Field Theory
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2014/07/08, Vol.27(1), pp.31-36
2014
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Influence of Solvent Vapor Atmospheres to the Self-assembly of Poly(styrene-b-dimethylsiloxane)
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2012/06/26, Vol.25(1), pp.27-32
2012
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Electrical yield verification of half-pitch 15 nm patterns using directed self-assembly of polystyrene- block -poly(methyl methacrylate)
Journal of vacuum science and technology. B, Nanotechnology & microelectronics, 2015-11, Vol.33 (6)
2015
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Simulation study on defect annihilation dynamics in directed self-assembly lithography
Journal of vacuum science and technology. B, Nanotechnology & microelectronics, 2015-11, Vol.33 (6)
2015
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Synthesis and Chromogenic Properties of Some Water-Soluble 5-Nitro-2-Pyridylhydrazones
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1990-12, Vol.63 (12), p.3398-3404
1990
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Synthesis and Chromogenic Properties of Disulfonated (1-Naphthyl)(2-quinolyl)methanone 5-Nitro-2-pyridylhydrazone and Its Application to the Spectrophotometric and Analogue-Derivative Spectrophotometric Determination of Trace Amounts of Zinc
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1989-09, Vol.62 (9), p.2835-2843
1989
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Synthesis and evaluation of positive-acting photosensitive polyimides with phenol moiety
Journal of applied polymer science, 1995-11, Vol.58 (9), p.1535-1542
1995
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Spectrophotometric Studies on Complexation Reaction of Some Water-Soluble 5-Nitro-2-Pyridylhydrazones with Bickel(II) and Determination of Trace Nickel with α-(2-Benzimidazolyl)-α-(5-nitro-2-pyridyl)hydrazono-3-toluenesulfonic Acid
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1990-12, Vol.63 (12), p.3405-3409
1990
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Spectrophotometric Studies on Complexation Reaction of Some Water-Soluble 5-Nitro-2-Pyridylhydrazones with Bickel(II) and Determination of Trace Nickel with [alpha]-(2-Benzimidazolyl)-[alpha]-(5-nitro-2-pyridyl)hydrazono-3-toluenesulfonic Acid
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1990-12, Vol.63 (12), p.3405
1990
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Spectrophotometric studies on complexation reactions of some water-soluble 5-nitro-2-pyridylhydrazones with cobalt. Spectrophotometric and derivative spectrophotometric determination of trace cobalt with 2-benzimidazolyl-3-sulphophenylmethanone 5-nitro-2-pyridylhydrazone
Analytica chimica acta, 1991, Vol.244 (2), p.223-229
1991
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