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Kernel Count Reduction in Model Based Optical Proximity Correction Process Models
Japanese Journal of Applied Physics, 2009-06, Vol.48 (6S), p.6
2009
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Sub-resolution Assist Feature Modeling for Modern Photolithography Process Simulation
Japanese Journal of Applied Physics, 2008-06, Vol.47 (6S), p.4862
2008
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Flare mitigation strategies in extreme ultraviolet lithography
Microelectronic engineering, 2008-05, Vol.85 (5-6), p.738-743
2008
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Mask absorber, mask tone, and wafer process impact on resist line-edge-roughness
Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology, 2023-10, Vol.22 (4)
2023
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Modelling strategies for the incorporation and correction of optical effects in EUVL
Microelectronic engineering, 2009-04, Vol.86 (4), p.500-504
2009
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Building bulk-resist model for image formation in chemically amplified resists at EUV
Microelectronic engineering, 2009-04, Vol.86 (4), p.787-791
2009
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A 45 deg dual dipole decomposition scheme to improve image fidelity
Microelectronic engineering, 2007-05, Vol.84 (5-8), p.694-699
2007
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Lithographic manufacturing robustness analysis for as drawn patterns
Microelectronic engineering, 2006-04, Vol.83 (4), p.1003-1007
2006
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Improvement of model kernel representation in process simulation by taking pattern correlation into account
Microelectronic engineering, 2007-05, Vol.84 (5), p.725-728
2007
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Errata: Non-delta-chrome optical proximity correction methodology for process models with three-dimensional mask effects
Journal of micro/nanolithography, MEMS, and MOEMS, 2011-10, Vol.10 (4), p.49801
2011
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Non-delta-chrome optical proximity correction methodology for process models with three-dimensional mask effects
Journal of micro/nanolithography, MEMS, and MOEMS, 2011-07, Vol.10 (3), p.33010
2011
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The Use of the Manufacturing Sensitivity Model Forms to Comprehend Layout Manufacturing Robustness For Use During Device Design
7th International Symposium on Quality Electronic Design (ISQED'06), 2006, p.485-490
2006
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Study of etching bias modeling and correction strategies for compensation of patterning process effects
Microelectronic engineering, 2013-10, Vol.110, p.147-151
2013
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Simonides on the Persian Wars: A study of the elegiac verses of the “new Simonides”
2003
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U.S. Experience with the AddVent VDD(R) Pacing System
Pacing and clinical electrophysiology, 1996-11, Vol.19 (11), p.1764-1767
1996
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