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Synthesis of WO3 Nanogranular Thin Films by Hot-Wire CVD
Chemical vapor deposition, 2010-06, Vol.16 (4-6), p.179-184
2010
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Hot-wire chemical vapor deposition of WO3−x thin films of various oxygen contents
Materials chemistry and physics, 2013-06, Vol.140 (1), p.89-96
2013
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Hydrogen etch resistance of aluminium oxide passivated graphitic layers
Journal of physics. D, Applied physics, 2021-12, Vol.54 (50), p.505304
2021
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Nanorod solar cell with an ultrathin a-Si:H absorber layer
Applied physics letters, 2011-03, Vol.98 (11), p.113111-113111-3
2011
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Growth process conditions of tungsten oxide thin films using hot-wire chemical vapor deposition
Materials chemistry and physics, 2011-12, Vol.131 (1), p.375-386
2011
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Fabrication and characterization of nanorod solar cells with an ultrathin a-Si:H absorber layer
Journal of non-crystalline solids, 2012-09, Vol.358 (17), p.2209-2213
2012
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Synthesis of WO 3 Nanogranular Thin Films by Hot‐Wire CVD
Chemical vapor deposition, 2010-06, Vol.16 (4-6), p.179-184
2010
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Metallic Tungsten Nanostructures and Highly Nanostructured Thin Films by Deposition of Tungsten Oxide and Subsequent Reduction in a Single Hot-Wire CVD Process
Chemical vapor deposition, 2012-03, Vol.18 (1-3), p.70-75
2012
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Design and photovoltaic performance of nanorod solar cells with amorphous silicon absorber layer thickness of only 25 nm
2013 IEEE 39th Photovoltaic Specialists Conference (PVSC), 2013, p.2212-2216
2013
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Design and photovoltaic performance of nanorod solar cells with amorphous silicon absorber layer thickness of only 25 nm
2011 37th IEEE Photovoltaic Specialists Conference, 2011, p.000802-000806
2011
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Potential of Hot Wire CVD for Active Matrix TFT Manufacturing
MRS proceedings, 2009-01, Vol.1153 (1), Article 1153-A22-01
2009
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