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Installieren Sie die LibKey Nomad-Browsererweiterung und erhalten Sie von vielen Webseiten einfachen Zugriff auf lizenzierte Volltexte oder Open Access Publikationen. Mehr erfahren...Solid-state electronics, 2022-09, Vol.197
2022
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Solid-state electronics, 2022-11, Vol.197, p.108448, Article 108448
2022
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Microelectronics and reliability, 2000-01, Vol.40 (1), p.77-86
2000
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2024 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits), 2024, p.1-2
2024
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2023 International Electron Devices Meeting (IEDM), 2023, p.1-4
2023
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Microelectronic engineering, 2002, Vol.60 (1-2), p.119-124
2002
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Journal of low temperature physics, 2008-04, Vol.151 (1-2), p.381-386
2008
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Microelectronic engineering, 2000, Vol.50 (1), p.369-374
2000
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Microelectronics and reliability, 1998-06, Vol.38 (6), p.1029-1034
1998
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IEEE transactions on electron devices, 2001-08, Vol.48 (8), p.1816-1821
2001
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Applied physics letters, 1990-01, Vol.56 (3), p.292-294
1990
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EAS publications series, 2009, Vol.37, p.89-93
2009
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Nuclear instruments & methods in physics research. Section A, Accelerators, spectrometers, detectors and associated equipment, 2008-09, Vol.594 (2), p.210-214
2008
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Surface science, 1989-04, Vol.211, p.969-978
1989
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Microelectronic engineering, 1997-11, Vol.37, p.285-291
1997
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Applied surface science, 1990-01, Vol.41-42, p.470-479
1990
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Applied physics letters, 1989-07, Vol.55 (3), p.235-237
1989
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Journal of applied physics, 1990-03, Vol.67 (5), p.2428-2433
1990
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Microelectronic engineering, 1997-11, Vol.37, p.261-269
1997
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Applied physics letters, 1989-02, Vol.54 (9), p.828-830
1989
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Microelectronic engineering, 2000, Vol.50 (1), p.473-479
2000
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Journal of crystal growth, 1990-04, Vol.101 (1), p.126-130
1990
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MRS proceedings, 1989, Vol.148, Article 389
1989
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Full CMP integration of CVD TiN damascene sub-0.1-/spl mu/m metal gate devices for ULSI applications
2001
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IEEE transactions on electron devices, 2001-08, Vol.48 (8), p.1816
2001
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