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All-inverter complementary metal oxide semiconductor based dose control circuit for using vertically aligned carbon nanofibers in maskless lithography
Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena, 2006-03, Vol.24 (2), p.1026-1029
2006
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An overview of circuits and devices research on SOI technology for analog/mixed-signal systems
The 2002 45th Midwest Symposium on Circuits and Systems, 2002. MWSCAS-2002, 2002, Vol.2, p.II-II
2002
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A novel all-inverter CMOS based dose control circuit for using vertically aligned carbon nanofibers in maskless lithography
2005 International Vacuum Nanoelectronics Conference, 2005, p.348-349
2005
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Progress toward realization of the digital electrostatic e-beam array lithography (DEAL) concept
2005 International Vacuum Nanoelectronics Conference, 2005, p.74-75
2005
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Development of robust analog and mixed-signal electronics for extreme environment applications
2004 IEEE Aerospace Conference Proceedings (IEEE Cat. No.04TH8720), 2004, Vol.4, p.2569-2579 Vol.4
2004
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