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Publisher’s Note: “Impact of nanosecond laser energy density on the C40-TiSi2 formation and C54-TiSi2 transformation temperature” [J. Appl. Phys 128, 085305 (2020)]
Journal of applied physics, 2020-10, Vol.128 (15)
2020
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Integration, BEOL, and Thermal Stress Impact on CMOS-Compatible Titanium-Based Contacts for III-V Devices on a 300-mm Platform
IEEE transactions on electron devices, 2020-06, Vol.67 (6), p.2495-2502
2020
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Advanced characterizations of fluorine-free tungsten film and its application as low resistance liner for PCRAM
Materials science in semiconductor processing, 2017-11, Vol.71, p.433-440
2017
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Nanoscale effect on the formation of the amorphous Ni silicide by rapid thermal annealing from crystalline and pre-amorphized silicon
Acta materialia, 2024-01, Vol.262, p.119430, Article 119430
2024
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Additional Siconi™ pre-clean for reliable TiSix contacts in advanced imager technologies
Micro and Nano Engineering, 2019-03, Vol.2, p.104-109
2019
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Observation of HfO2 thin films by deep UV spectroscopic ellipsometry
Journal of non-crystalline solids, 2007-04, Vol.353 (5-7), p.658-662
2007
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On the influence of Ni(Pt)Si thin film formation on agglomeration threshold temperature and its impact on 3D imaging technology integration
Microelectronic engineering, 2023-03, Vol.271-272, p.111937, Article 111937
2023
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Platinum redistribution in the Ni0.9Pt0.1/InP system: Impact on solid-state reaction and layer morphology
Materials science in semiconductor processing, 2021-06, Vol.128, p.105731, Article 105731
2021
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Understanding of the thermal stability of the hafnium oxide/TiN stack via 2 “high k” and 2 metal deposition techniques
Microelectronic engineering, 2007-09, Vol.84 (9), p.1886-1889
2007
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Infrared spectroscopy of high k thin layer by multiple internal reflection and attenuated total reflection
Physica status solidi. C, 2003-12 (8), p.2961-2965
2003
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Chemical interface analysis of as grown HfO2 ultrathin films on SiO2
Journal of applied physics, 2007-02, Vol.101 (3)
2007
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Observation of HfO sub(2) thin films by deep UV spectroscopic ellipsometry
Journal of non-crystalline solids, 2007-04, Vol.353 (5-7), p.658-662
2007
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Observation of HfO 2 thin films by deep UV spectroscopic ellipsometry
Journal of non-crystalline solids, 2007, Vol.353 (5), p.658-662
2007
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Observation of HfO2 thin films by deep UV spectroscopic ellipsometry
Journal of non-crystalline solids, 2007, p.Issue: 5-7 (2007) 658-662
2007
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Chemical interface analysis of as grown Hf O 2 ultrathin films on Si O 2
Journal of applied physics, 2007-02, Vol.101 (3), p.034112-034112-6
2007
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Nickel-based CMOS-compatible contacts on p-In0.53Ga0.47 As for III-V / silicon hybrid lasers
2020 IEEE International Interconnect Technology Conference (IITC), 2020, p.121-123
2020
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Understanding of the thermal stability of the hafnium oxide/TiN stack via 2 "high k" and 2 metal deposition techniques
Microelectronic engineering, 2007, p.Issue: 9-10, (2007) 1886-1889
2007
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Atomic Vapour Deposition (AVD™) Process for High Performance HfO 2 2 Dielectric Layers
MRS proceedings, 2004, Vol.811, Article D9.8
2004
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Atomic Vapour Deposition (AVD™) Process for High Performance HfO22 Dielectric Layers
MRS proceedings, 2004, Vol.811
2004
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