Sie befinden Sich nicht im Netzwerk der Universität Paderborn. Der Zugriff auf elektronische Ressourcen ist gegebenenfalls nur via VPN oder Shibboleth (DFN-AAI) möglich. mehr Informationen...
Sortiert nach
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
Boron doping of silicon by plasma source ion implantation
Surface & coatings technology, 1997-09, Vol.93 (2), p.247-253
1997
Volltextzugriff (PDF)
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
Structural Analysis of Silicon Doped by Plasma Source Ion Implantation
MRS proceedings, 1993, Vol.316, Article 1017
1993
Volltextzugriff (PDF)
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
Plasma Doped (PLAD) Deep Sub-Half Micron Buried Channel PMOSFETS and its Application to Next Generation ULSI Circuits
ESSDERC '96: Proceedings of the 26th European Solid State Device Research Conference, 1996, p.357-360
1996
Volltextzugriff (PDF)
    Datensatz exportieren als...
  • BibTeX
Formation of deep sub-micron buried channel pMOSFETs with plasma doping
Proceedings of 11th International Conference on Ion Implantation Technology, 1996, p.753-756
1996
Volltextzugriff (PDF)
1 – 4 von 4
Suche als RSS-Feed
Suchergebnisse filtern
Filter anzeigen