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Negative PMMA as a high-resolution resist - the limits and possibilities

Semiconductor science and technology, 1997-09, Vol.12 (9), p.1166-1170

1997

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Resolution limits for electron-beam lithography

IBM journal of research and development, 1988-07, Vol.32 (4), p.502-513

Broers, A. N.

1988

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Direct nanometer scale patterning of SiO2 with electron beam irradiation through a sacrificial layer

Applied physics letters, 1990-11, Vol.57 (21), p.2271-2273

1990

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Lateral tunneling, ballistic transport, and spectroscopy in a two-dimensional electron gas

Physical review letters, 1989-04, Vol.62 (15), p.1776-1779

1989

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Electron beam lithography—Resolution limits

Microelectronic engineering, 1996-09, Vol.32 (1), p.131-142

1996

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The dependence of nanostructure etch rates on feature size

Microelectronic engineering, 1996-01, Vol.30 (1-4), p.349-352

1996

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A novel technique for the fabrication of sub-20nm metallic wires

Microelectronic engineering, 1996-01, Vol.30 (1-4), p.467-470

1996

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Fabrication Limits of Electron Beam Lithography and of UV, X-Ray and Ion-Beam Lithographies

Philosophical transactions of the Royal Society of London. Series A: Mathematical, physical, and engineering sciences, 1995-12, Vol.353 (1703), p.291-311

1995

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Integrated nanofabrication with the scanning electron microscope and scanning tunneling microscope

Applied physics letters, 1993-10, Vol.63 (17), p.2435-2437

1993

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Proximity effect in electron beam patterned x-ray masks

Applied physics letters, 1990-04, Vol.56 (16), p.1594-1596

1990

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Limits of nano-gate fabrication

Proceedings of the IEEE, 1991-08, Vol.79 (8), p.1093-1105

1991

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Electron beam induced damage of silicon germanium

Microelectronic engineering, 1997-02, Vol.35 (1-4), p.59-62

1997

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Electron-beam fabrication of 80-Å metal structures

Applied physics letters, 1976-11, Vol.29 (9), p.596-598

1976

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Nanometer scale pattern replication using electron beam direct patterned SiO2 as the etching mask

Applied physics letters, 1991-12, Vol.59 (24), p.3157-3158

1991

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Scanning electron beam method for examining surfaces in a short focal length magnetic lens

Applied physics letters, 1986-07, Vol.49 (2), p.115-117

1986

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High resolution electron beam fabrication: a brief review of experimental studies that began at Cambridge University in 1962

Journal of microscopy (Oxford), 1985-08, Vol.139 (2), p.139-152, Article 139

Broers, A. N.

1985

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The Clifford Paterson Lecture, 1986 - Limits of thin-film microfabrication

Proceedings of the Royal Society of London. Series A, Mathematical and physical sciences, 1988-03, Vol.416 (1850), p.1-42

1988

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Resolution in surface scanning electron microscopy of bulk samples

Ultramicroscopy, 1982, Vol.8 (1), p.137-144

Broers, A.N.

1982

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SQUID '80. Superconducting Quantum Interference Devices and their Applications: Proceedings of the Second International Conference on Superconducting Quantum Devices, Berlin (West), May 6-9, 1980

1, 2019

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Lanthanum Hexaboride Electron Emitter

Journal of applied physics, 1972-01, Vol.43 (5), p.2185-2192

1972

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High-Resolution Soft X-ray Microscopy

Science (American Association for the Advancement of Science), 1977-07, Vol.197 (4300), p.259-260

1977

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A New High Resolution Reflection Scanning Electron Microscope

Review of scientific instruments, 1969-08, Vol.40 (8), p.1040-1045

Broers, A. N.

1969

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Some experimental and estimated characteristics of the lanthanum hexaboride rod cathode electron gun

Journal of physics. E, Scientific instruments, 1969-01, Vol.2 (3), p.273-276, Article 310

Broers, A N

1969

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Improved electron beam pattern writing in SiO2 with the use of a sample heating stage

Applied physics letters, 1993-09, Vol.63 (10), p.1441-1442

1993

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Characterization of electron beam induced modification of thermally grown SiO2

Applied physics letters, 1995-09, Vol.67 (11), p.1538-1540

1995

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