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Journal of Photopolymer Science and Technology, 2024/06/25, Vol.37(3), pp.279-285
2024
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Open Access
Positive-Tone Organoantimony Resists
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2024/06/25, Vol.37(3), pp.273-278
2024
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Journal of Photopolymer Science and Technology, 2017/06/26, Vol.30(1), pp.113-120
2017
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Journal of Photopolymer Science and Technology, 2018/06/25, Vol.31(2), pp.233-242
2018
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Journal of Photopolymer Science and Technology, 2016/06/21, Vol.29(3), pp.453-458
2016
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Journal of Photopolymer Science and Technology, 2017/06/26, Vol.30(1), pp.121-131
2017
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Journal of Photopolymer Science and Technology, 2021/06/11, Vol.34(1), pp.117-121
2021
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Open Access
Bismuth Resists for EUV Lithography
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2014/07/08, Vol.27(5), pp.655-661
2014
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Journal of the American Chemical Society, 2009-07, Vol.131 (29), p.9862-9863
2009
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Journal of Photopolymer Science and Technology, 2013/06/25, Vol.26(5), pp.665-671
2013
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Journal of Photopolymer Science and Technology, 2014/07/08, Vol.27(5), pp.611-615
2014
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Journal of vacuum science and technology. B, Nanotechnology & microelectronics, 2015-11, Vol.33 (6)
2015
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Journal of Photopolymer Science and Technology, 2021/06/11, Vol.34(1), pp.81-86
2021
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Open Access
Current Status of EUV Photoresists
Journal of Photopolymer Science and Technology, 2003, Vol.16(3), pp.401-410
2003
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Journal of micro/nanolithography, MEMS, and MOEMS, 2018-07, Vol.17 (3), p.1
2018
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