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A comparative study of oxygen/organosilicon plasmas and thin SiOxCyHz films deposited in a helicon reactor
Thin solid films, 2000-01, Vol.359 (2), p.188-196
2000
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Open Access
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Optical emission spectra of TEOS and HMDSO derived plasmas used for thin film deposition
Plasma sources science & technology, 2003-02, Vol.12 (1), p.89-96
2003
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Structure and properties of silicon oxide films deposited in a dual microwave-rf plasma reactor
Thin solid films, 2001-03, Vol.384 (2), p.230-235
2001
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Study of oxygen/tetraethoxysilane plasmas in a helicon reactor using optical emission spectroscopy and mass spectrometry
Plasma sources science & technology, 2000-08, Vol.9 (3), p.331-339
2000
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Mass spectrometric investigation of the positive ions formed in low-pressure oxygen/tetraethoxysilane and argon/tetraethoxysilane plasmas
Journal of applied physics, 2001-05, Vol.89 (9), p.5227-5229
2001
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Experimental investigation of the respective roles of oxygen atoms and electrons in the deposition of SiO2 in O2/TEOS helicon plasmas
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1999-09, Vol.17 (5), p.2470-2474
1999
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Chemical etching of thin SiOxCyHz films by post-deposition exposure to oxygen plasma
Applied surface science, 1999-01, Vol.138-139, p.57-61
1999
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Experimental investigation of the respective roles of oxygen atoms and electrons in the deposition of SiO 2 in O 2 /TEOS helicon plasmas
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 1999-09, Vol.17 (5), p.2470-2474
1999
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Comparative study of oxygen/organosilicon plasmas and thin SiO sub(x)C sub(y)H sub(z) films deposited in a helicon reactor
Thin solid films, 2000-01, Vol.359 (2), p.188-196
2000
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A comparative study of oxygen/organosilicon plasmas and thin SiO xC yH z films deposited in a helicon reactor
Thin solid films, 2000, Vol.359 (2), p.188-196
2000
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Chemical etching of thin SiO xC yH z films by post-deposition exposure to oxygen plasma
Applied surface science, 1999, Vol.138, p.57-61
1999
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Chemical etching of thin SiOxCyHz films by post-deposition exposure to oxygen plasma
Applied surface science, 1999, Vol.138-39, p.57-61
1999
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