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Projection reduction exposure with variable axis immersion lenses: Next generation lithography
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 1999-11, Vol.17 (6), p.2840-2846
1999
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PREVAIL e-beam stepper alpha tool
Microelectronic engineering, 2001-09, Vol.57, p.163-172
2001
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Low energy ion counting efficiency of a Johnston electron multiplier
Review of scientific instruments, 1980-03, Vol.51 (3), p.396-397
1980
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Telecentric beam positioning for advanced e-beam lithography
Microelectronic engineering, 1992-03, Vol.17 (1), p.25-28
1992
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A triatomic Xe2Cl excimer laser in the visible
Applied physics letters, 1980-03, Vol.36 (6), p.405-407
1980
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PREVAIL: Operation of the electron optics proof-of-concept system
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 1999-11, Vol.17 (6), p.2851-2855
1999
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PREVAIL: Dynamic correction of aberrations
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 2000-11, Vol.18 (6), p.3079-3083
2000
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Optimization of variable axis immersion lens for resolution and normal landing
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 1990-11, Vol.8 (6), p.1682-1685
1990
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