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Transparent conductive Al and Ga doped ZnO films deposited using off-axis sputtering
Thin solid films, 2014-05, Vol.559, p.69-77
2014
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High-rate deposition of high-quality Sn-doped In2O3 films by reactive magnetron sputtering using alloy targets
Thin solid films, 2012-04, Vol.520 (12), p.4101-4105
2012
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Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by reactive dc sputtering using Ti–Nb alloy target, precisely controlled in the transition region using impedance feedback system
Applied surface science, 2014-05, Vol.301, p.551-556
2014
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Study on reactive sputtering to deposit transparent conductive amorphous In2O3–ZnO films using an In–Zn alloy target
Thin solid films, 2014-05, Vol.559, p.49-52
2014
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Al-doped ZnO films deposited on a slightly reduced buffer layer by reactive dc unbalanced magnetron sputtering
Thin solid films, 2014-03, Vol.555, p.93-99
2014
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High-rate deposition of Sb-doped SnO2 films by reactive sputtering using the impedance control method
Thin solid films, 2011-12, Vol.520 (4), p.1178-1181
2011
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In-situ analyses on the reactive sputtering process to deposit Al-doped ZnO films using an Al–Zn alloy target
Thin solid films, 2012-03, Vol.520 (10), p.3751-3754
2012
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In-situ analysis of positive and negative energetic ions generated during Sn-doped In2O3 deposition by reactive sputtering
Thin solid films, 2011-12, Vol.520 (4), p.1182-1185
2011
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Study on inverse spinel zinc stannate, Zn2SnO4, as transparent conductive films deposited by rf magnetron sputtering
Thin solid films, 2010, Vol.518 (4), p.1304-1308
2010
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