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Stabilizing Small Molecules on Metal Oxide Surfaces Using Atomic Layer Deposition
Nano letters, 2013-10, Vol.13 (10), p.4802-4809
2013
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Atomic Layer Deposition of TiO2 on Mesoporous nanolTO: Conductive Core-Shell Photoanodes for Dye-Sensitized Solar Cells
Nano letters, 2014-06, Vol.14 (6), p.3255-3261
2014
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Solution-Processed, Antimony-Doped Tin Oxide Colloid Films Enable High-Performance TiO2 Photoanodes for Water Splitting
Nano letters, 2013-04, Vol.13 (4), p.1481-1488
2013
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Atomic Layer Deposition on Electrospun Polymer Fibers as a Direct Route to Al2O3 Microtubes with Precise Wall Thickness Control
Nano letters, 2007-03, Vol.7 (3), p.719-722
2007
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Charge generation during oxidation of thin Hf metal films on silicon
Thin solid films, 2006-08, Vol.513 (1), p.201-205
2006
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Low temperature metal oxide film deposition and reaction kinetics in supercritical carbon dioxide
Thin solid films, 2008-06, Vol.516 (15), p.4997-5003
2008
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Angular behavior of the Berreman effect investigated in uniform Al2O3 layers formed by atomic layer deposition
Journal of physics. Condensed matter, 2010-04, Vol.22 (15), p.155401-155401
2010
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  • BibTeX
Bond Selectivity in Silicon Film Growth
Science (American Association for the Advancement of Science), 1992-05, Vol.256 (5061), p.1304-1306
1992
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  • BibTeX
Selective deposition and bond strain relaxation in silicon PECVD using time modulated silane flow
Japanese Journal of Applied Physics, 1992-06, Vol.31 (6B), p.1943-1947
1992
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  • BibTeX
Progress and future directions for atomic layer deposition and ALD-based chemistry : PROGRESS AND FUTURE DIRECTIONS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION AND ALD-BASED CHEMISTRY
MRS bulletin, 2011, Vol.36 (11), p.865-871
2011
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Surface reactions in very low temperature (<150°C) hydrogenated amorphous silicon deposition, and applications to thin film transistors
Journal of non-crystalline solids, 2000, Vol.266-69, p.23-30
2000
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