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IR and Raman absorption spectroscopic studies of APCVD, LPCVD and PECVD thin SiN films
Vacuum, 2002-12, Vol.69 (1), p.301-305
2002
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Iron silicide formed in a-Si:Fe thin films by magnetron co-sputtering and ion implantation
Vacuum, 2002-12, Vol.69 (1), p.221-225
2002
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Vacuum rapid thermal annealing of quartz resonators
Vacuum, 2002-12, Vol.69 (1), p.379-383
2002
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Formation of MoSi2 by rapid thermal annealing in vacuum of CVD – Mo films on silicon substrate
Vacuum, 2000-08, Vol.58 (2-3), p.502-508
2000
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Effect of vacuum rapid thermal annealing on the properties of SiNx films
Vacuum, 2000-08, Vol.58 (2-3), p.509-515
2000
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FeSi2 thin films investigated by X-ray photoelectron and infrared spectroscopy
Vacuum, 2000-08, Vol.58 (2-3), p.420-427
2000
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Properties of palladium silicide thin films obtained by vacuum rapid thermal annealing of r.f. sputtered Pd films on Si
Vacuum, 1998-10, Vol.51 (2), p.177-180
1998
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Carbon nitride films synthesized by electron beam evaporation of carbon and nitrogen ion bombardment
Vacuum, 1999-04, Vol.52 (4), p.501-504
1999
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Influence of vacuum rapid thermal annealing on the properties of Al and Ag films on quartz
Vacuum, 1996-11, Vol.47 (11), p.1329-1331
1996
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Thin CNx films prepared by vacuum rapid thermal annealing
Vacuum, 1998-10, Vol.51 (2), p.169-172
1998
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Magnetoresistance of La0.7Sr0.3MnO3 thin films obtained by magnetron sputtering on different substrates
Vacuum, 2000-08, Vol.58 (2-3), p.364-368
2000
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Influence of vacuum rapid thermal annealing on some properties of quartz resonators
Vacuum, 1998-10, Vol.51 (2), p.173-175
1998
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Preparation of WSI2 by rapid thermal annealing of CVD thin films of tungsten
Vacuum, 1998-10, Vol.51 (2), p.181-184
1998
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Formation of MoSi 2 by rapid thermal annealing in vacuum of CVD – Mo films on silicon substrate
Vacuum, 2000, Vol.58 (2), p.502-508
2000
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Effect of vacuum rapid thermal annealing on the properties of SiN x films
Vacuum, 2000, Vol.58 (2), p.509-515
2000
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FeSi 2 thin films investigated by X-ray photoelectron and infrared spectroscopy
Vacuum, 2000, Vol.58 (2), p.420-427
2000
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Preparation of WSI 2 by rapid thermal annealing of CVD thin films of tungsten
Vacuum, 1998, Vol.51 (2), p.181-184
1998
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